CTP 플레이트 품질이 좋고 나쁘다 pk
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현재 CTP 시장의 발전 추세를 살펴보면 기술 경쟁은 불가피합니다. 판을 예로 들면, 은염 형, 광중합 형, 감열 형 (열 화상 형), 자유 가공 CTP 판형의 4 종류가 있습니다. 각각에는 그것의 자신의 공로가 있고 생각의 100 개의 학교는 쟁탈된다고 말한다.
1. 은염 형 CTP 판재
은염 형 CTP 판은 주로 2 종의 은염 확산 전사 판과 은염 및 PS 판 복합 판을 포함한다.
은염 확산 전 사용 플레이트는 주로 판 기초, 은염 에멀젼 층 및 물리적 현상 핵 층으로 구성된다. 확산 전사 이미징 기술이 채택되었습니다. 원리는 레이저 스캐닝으로 노출 된 은염 판입니다. 할로겐화은 용매를 함유하는 현상액에서, Ag + 및 할로겐화은 용매는 물리적 현상 핵을 촉매 화하기 위해 화상 수용층에 착화되고 확산된다. 이것은 작용에 의해 금속성은으로 환원되고은 표면을 형성하여 은상을 형성합니다. 현상이 완료된 후, 표면상의 할로겐화은 에멀젼 층은 물 세척에 의해 제거되어 비 화상 영역의 친수성 모래 및 화상 영역을 노출시키고, 증감 액에서 설프 하이 드릴 그룹을 갖는 장쇄 유기 분자는 증착 된은 표면 상에 선택적으로 흡착된다. 이미지 영역을 친 유성으로 만드십시오. 결과적으로, 증착 된 은상은 잉크를 받아들이 기 시작하고 물을 튕기는 반면, 비 - 화상 부분 (은 증착이 없음)은 여전히 잉크를 거부하여 직접 컴퓨터 판 제조의 목적을 달성한다.
은염 및 PS 판 복합 판은 주로 고감도 실버 염 에멀젼 층 및 넓은 감도 범위를 갖는 PS 판으로 구성됩니다. 예비 - 감광성 감광성 폴리머 층, 타이 층 및 할로겐화은 에멀젼 층은 거칠고 양극화 된 알루미늄 기재 상에 순차적으로 코팅된다. 이미징 원리는 은염 층이 레이저에 의해 먼저 노광되어 수 지층 상에 그래픽 은색 화상을 형성하므로, 이중 노광시에 하부 감광 층이 감광성으로부터 보호 될 수있다. 1 회의 현상 후, 비 노광 부분의 에멀젼 층을 용해시킨 다음, 이중 노광을 수행하여, 전체 레이아웃을 UV 광으로 노광 하였다. 화상 층이 광을 차단하기 때문에, UV 광은 비 화상 부의 광 분해성 감광성 수 지층만을 노광하고, 2 차 현상 및 이중 노광이 실시 된 수 지층은 용해되어 알루미나 판 염기를 노출시킨다. 마지막으로,은 상층은 정착액으로 지질 화 처리 될 수있다.
실버 소금 타입 CTP 플레이트 특징
(1) 은염 형 CTP 판재는 고감도이다.
1 ~ 3μJ / cm2에 도달 할 수있어 저출력, 저에너지 및 저 강도의 레이저를 사용하여 고속 플레이트 출력을 구현할 수 있습니다. 또한 은염 형 CTP 판은 빠른 광속을 가지며 현재의 CTP 판에서 가장 빠른 판입니다.
(2) 은염 형 CTP 판은 폭 넓은 용도로 사용할 수 있습니다.
적색 레이저, 녹색 레이저 및 보라색 레이저 시스템을 사용할 수 있습니다. 세정 방법 및 후 처리 공정은 종래의 방법과 동일하며, 상이한 제조사의 CTP 플레이트는 화학 용액의 배합과 양립 할 수있다.
(3) 은염 형 CTP 판은 고해상도, 넓은 스펙트럼 응답 및 양호한 도트 재현성의 특성을 갖는다.
스크린 선의 수는 300의 선 또는 인치를 도달 할 수 있고, 점의 적용은 1 %에서 99 %를 도달 할 수 있고, 인쇄판의 질은 우수하고, printing 내구성은 250,000의 printing 이상에 적당하다 대형 인쇄 및 고품질 인쇄.
(4) 은염 형 CTP 판재는 고가의은을 원료로하고 있기 때문에,
생산 비용이 어느 정도 증가하고, 은염 형 CTP 판이 밝은 실내에서 작동 할 수 없으므로 판재의 보존에 일정한 한계가있다.
2. 광중합 형 CTP 플레이트
광중합 형 CTP 판은 주로 샌드 임프린트 된 알루미늄 판베이스, 감광 층 및 보호 층으로 구성됩니다. 감광 층은 주로 필름 형성 수지, 증감 색소, 광개시제, 단량체 또는 올리고머로 구성되며 안정하다. 대리인 및 다른 첨가물의 구성. 보호 층은 주로 모노머 또는 올리고머에서 산소의 억제를 차단하는 데 사용되는 폴리 비닐 알코올 산소 차단 층입니다. 이미징 원리는 플레이트 재료가 레이저 광원에 의해 스캐닝 된 후, 광 부분의 감광 층 내의 증감 물질은 먼저 광자 에너지를 여기 상태로 흡수 한 다음, 광 개시제에 에너지를 전달하고 광 개시제 자유 라디칼을 형성하도록 분해된다. 염기 개시 모노머 또는 올리고머는 중합되고 고형화되어 그래픽 부분을 형성한다. 빛이 관찰되지 않은 부분은 현상에 의해 제거되어 블랭크 부분을 형성한다. 현상 전에, 비가 시부의 보호 층을 씻어 내고, 고감도의 고분자 층을 알칼리 현상액으로 용해시킨다. 현상이 완료된 후, 브러시로 보호 층을 완전히 제거합니다. 최종적으로, 합성수지 용액으로 플레이트를 세척하고, 합성수지는 블랭크 부분의 친수성을 향상시킬뿐만 아니라 화상 부분의 친 유성을 향상시키고, 건조 후에 인쇄 할 수있다.
광중합 형 CTP 판의 특성
(1) 광중 합성 CTP 판은 얇은 감광 층을 갖고, 화상 부분과 블랭크 부분은 실질적으로 동일 평면 상에 있으며, 종래의 오프셋 유형이며, 높은 감도와 빠른 제판 속도를 갖는다.
(2) 광중 합성 CTP 판재에 사용되는 현상액은 알칼리성이며, 감광 층의 막 형성 수지 및 모노머 또는 올리고머는 일정한 산도를 가지고, 알칼리 용액에 용해되어 현상에 의해 제거 될 수 있고, 알칼리성 개발자는 환경 오염이 적고 환경 친화적입니다.
(3) 광중합 형 CTP 판재는 자색 레이저 다이오드 (410nm), 아르곤 이온 레이저 (488nm), FDYAG 레이저 (532nm), 적외선 레이저 다이오드 (830nm) 등 다른 레이저 광원을 사용할 수 있으며, 비용은 낮은. 그리고 광중합 형 CTP 판은 소성 후 100 만회 이상의 인쇄 내구성을 가지고 있습니다.
3. 열적 CTP 플레이트
열에 민감한 CTP 플레이트에는 여러 가지 유형이 있지만 핫멜트 (hot-melt) 유형과 열 가교 결합 (heat-cross-linked) 유형의 두 가지 유형이 있습니다.
핫멜트 형 CTP 판은 알루미늄 판, 잉크 수용층 및 PVA 층 (종래의 오프셋 인쇄에서 사용됨) 또는 거칠게 할 필요가없는 실리카 겔 (물없는 오프셋 인쇄에 사용됨)으로 주로 구성된다. 그 영상화 원리는 반도체 레이저 다이오드를 사용하는 노광이다. 기재상의 열 민감성 코팅 (즉, 잉크 수용층)은 잉크 발수성이며 알칼리성 시럽에는 불용성이다. 노출 후 코팅은 에너지를 흡수하고 용해도를 증가 시키며 알칼리성 시럽에 용해됩니다. 현상시, 노출 된 부분은 알칼리성 시럽에 용해되어 인쇄판의 빈 부분을 형성한다. 비 노광 부분은 용해되지 않고, 인쇄판의 그래픽 부분을 형성한다. 현상 후에는 기계에 인쇄하기 전에 일반적으로 청소하고 접착합니다.
열 가교 된 CTP 판은 주로 거친 알루미늄 판과 단층 PS 감광 층으로 구성되어있다. 그 영상 원리는 적외선에 의해 노출됩니다. 노광 중에, 광열 변환 물질은 적외선 레이저의 광 에너지를 열에너지로 변환 시켜서 감광 층 내의 폴리머의 일부를 열 가교 반응시켜 잠상을 형성시키고, 그래픽 부는 알칼리 현상액에 용해되지 않도록 화상 부에서 분자 화합물을 추가로 가교 결합시키기 위해 재가열한다. 예열시, 블랭크 부분 또한 부분적으로 반응하므로, 블랭크 부분의 이미지는 현상 중에 제거된다. 온도가 너무 높으면 뜨거운 안개가 플레이트에 형성됩니다. 온도가 너무 낮 으면 이미지가 흐려 지거나 약해집니다.
열적 CTP 플레이트 특징
(1) 열 CTP 판은 자연광에 대한 민감도가 적고 적외선 레이저에 의해 노출되므로 밝은 실내 조건에서 작동 할 수 있습니다.
(2) 열판이 이미지를 생성해야하고 초기 열 에너지 임계 값에 도달해야합니다. 초기 임계 값을 초과하는 열 에너지는 도트의 모양을 변경하지 않습니다. 예측 된 결과를 제어 할 수있는 유일한 기술입니다. 품질은 제어하기 쉽고, 출판 품질은 안정적이며, 노출 후에도 안정적입니다. 이 판은 개발 6 개월 전에 연장 할 수 있으며 판의 품질에도 별다른 영향을 미치지 않습니다.
(3) 열적 CTP 판은 양호한 도트 재현성 및 고해상도를 가지며, 도트의 가장자리는 선명하고 선명하다. 인쇄 중 잉크 균형을 맞추기 쉽고 인쇄 성이 좋으며 제빵 후 인쇄 내구성이 최대 100 만 장 이상입니다.
위에 소개 된 세 가지 지배적 인 CTP 플레이트 외에도 최근 몇 년간 CTP 플레이트의 자유로운 취급이 논의의 뜨거운 주제가되었습니다.
4. CTP 플레이트의 자유 가공
프리 취급 CTP 플레이트는 일본의 Asahi Kasei Corporation에서 처음 소개되었습니다. 넓은 의미에서, 플레이트가 직접 플레이트 제조 장비에서 노출되고 이미징 된 후에는 후속 처리 단계없이 기계에 인쇄 할 수 있음을 의미합니다. 물론, 화학 약품 개발, 헹굼 등을 필요로하지 않으며 가공이 필요없는 실제 판입니다. 좁은 의미에서, 이는 판재가 직접 제판기에서 노광 및 이미징 후에 화학적으로 현상 될 필요는 없지만 판재 절삭 폐기물의 제거와 같은 비 화학적 처리 공정이 여전히 존재 함을 의미한다 및 보호용 고무의 도포. 제판 공정에서 프로세스 프리 플레이트는 DI (직접 이미지 온 프레스) 프레스를위한 프로세스 프리 플레이트와 CTP 플레이트 세터의 노광 이미징을위한 플레이트로 나눌 수 있습니다.
핸들링 기능 무료
(1) 기존의 CTP 판과 비교하여 무 처리 판은 현상, 고정, 세척, 접착, 건조 등의 단계를 제거하고 제판주기를 단축하며 노광시 소모되는 에너지 양을 줄이고 전반적인 제판 비용. 생산 효율을 높이고 생산 공정을 간소화합니다.
(2) 무공해 판은 화학 약품 현상이나 헹굼 등이 필요 없기 때문에, 무공해 제판 공정은 화학 폐액, 배기 가스, 폐 잔류 물 등을 발생시키지 않아 환경 오염을 줄이고, 인쇄 작업자에게도 적합합니다. 그것은 유익하다.
(3) 판의 헹굼 조건의 변화, 레이저 에너지의 변화 및 헹굼 액의 농축은 무 처리 판의 헹굼을 필요로하지 않고보다 높은 품질의 안정성을 가능하게한다.
(4) 무공해 처리 장치는 가공되지 않은 판에 필요하지 않으므로 공장 공간을 절약 할 수 있으며 중소기업에게는 큰 이점이지만 가공없는 판의 가격은 기존의 것보다 높습니다 CTP 플레이트.
CTP 시장 전쟁은 전국 시대로 들어 섰습니다. 우리는 전쟁을 두려워하지 않습니다. 이런 식으로 만 우리는 역사의 바퀴를 홍보하고 더 나은 미래를 창조 할 수 있습니다.