전자 공학 분야의 인쇄 기술 적용
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전자 공학 분야에서 적용되는 고정밀 몰딩 공정은 실제 생산 산업에서 주로 포토 리소그래피 방법을 사용합니다.
표 1은 상용화 된 전자 공학 부품 및 광학 부품의 최소 선폭입니다. 대량 생산 공정의 관점에서 포토 마스크 모델은 나노 수준으로 포토 리소그래피 도금이되어야하지만 10μ. 사진관 마스크의 상기 라인 폭과 인쇄 회로 기판 모델은 현재 포토 리소그래피 공정을 사용하여 대량 생산된다. 그 이유는이 방법이 매우 신뢰성 있기 때문입니다.
그럼에도 불구하고 전자 공학 분야의 광학 부품이 널리 보급되고 비용을 추가로 절감해야하므로 인쇄, 잉크젯 및 전자 사진과 같은 다른 프로세스로 처리가 대체되고 있습니다.
이는 공간 제약으로 인한 것이며, 인쇄 과정에서 얻을 수있는 높은 수준의 정밀도와 그 생산 및 적용 사례를 간략하게 소개 할 수 있습니다.
다양한 인쇄 방법
종이 또는 필름에 텍스트 및 이미지를 인쇄하는 인쇄 방법은 용도에 따라 레이아웃 모양에 따라 릴리프, 리소그래피, 그라비아 및 스텐실로 구분됩니다. 이러한 일반적인 인쇄 기술은 아날로그에서 디지털로 진화 한 다음 네트워크에 연결하여 모양을 변경합니다.
여기서 오프셋 인쇄 (리소그래피) 및 스크린 인쇄 (홀 플레이트)의 현재 상태를 분석하기위한 고정밀 인쇄 기술의 강도와 전자 공학에서의 적용에 초점을 맞추어 보겠습니다 (표 2 참조). 일반적으로, 잉크의 점도는 비교적 높고, 재생 필름의 두께는 비교적 얇은 것으로 간주 될 수 있으며, 미세 라인 재현성은 양호한 것으로 보인다.
가장 인기있는 오프셋 인쇄의 예로 해외 잡지는 주간 잡지의 색상 표지에 700 줄 인쇄 사례를 사용했습니다. 일반적으로 175 줄로 인쇄되고 갑자기 인쇄 할 700 줄을 사용하기로 결정한 경우 미세 부품의 성능은 물론 증가 할 것입니다. 육안으로 볼 수없는 이미지는 돋보기로 명확하게 인식 할 수 있습니다. 도트이므로 미세한 선폭을 표현하기는 어렵지만 여전히 20μ 정도를 나타낼 수 있습니다. 그러나 이것은 인쇄 된 이미지의 그림 일뿐입니다. 전자 공학 응용 프로그램의 모델 재생산에 관해서는 요구 사항이 훨씬 더 엄격합니다. 이것은 주로 잉크 필름 두께가 부족하기 때문입니다.
또한, 그라비어 인쇄의 예로, 주식, 증권 등의 위조 방지에 인쇄 된 세밀한 텍스트 및 미세 음영을 위해이 이미지 부분을 돋보기로 보면 복제를 볼 수 있습니다 10 ~ 20μ가는 선의. . 일반적으로 그라비어 인쇄는 오프셋 인쇄에 비해 잉크 필름의 두께를 향상시킬 수 있기 때문에 전자 공학 응용 분야에 유리합니다.
그라비아 오프셋 인쇄로 LCD 에나멜 거울 인쇄
다음은 그라비어 오프셋 인쇄 기능이있는 LCD 에나멜 미러를 인쇄하는 예입니다. 잉크가 음각 판에 도포 된 후 실리콘 블랭킷으로 전사 한 후 유리 기판에 전체 양을 인쇄하는 방법 (그림 1 참조). 대량 생산시 디자인 크기에 따라 인쇄 선폭은 40 ~ 50 μ color mirror가 시중에 나왔다. 그러나 남은 문제는 모델 표면의 평탄도입니다.
평탄성을 개선하는 방법으로서, 플립 프린팅 방법이 개발되었다. 이것은 먼저 담요 위에 직접 잉크를 도포하고, 네거티브 릴리프로 불필요한 부분을 제거한 다음 최종적으로 일반 유리판으로 옮겨서 수행됩니다. 모델의 평탄도는 담요에 적용된 잉크 층의 균일 성과 매끄러움에 완전히 의존합니다. 따라서,이 방법은 그라비어 오프셋 인쇄 방법보다 평탄도를 제어하기 쉽다고 말할 수있다.